面向屏幕水印的双屏最小完全覆盖算法

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面向屏幕水印的双屏最小完全覆盖算法

工业互联网安全 | 更新时间：2022-12-27

- 面向屏幕水印的双屏最小完全覆盖算法
- Dual-screen Minimum Complete Coverage Algorithm for Screen Watermarking
- 软件导刊 2022年21卷第10期页码：217-224
- 作者机构：
  
  成都飞机工业（集团）有限责任公司，四川成都 610031
- 作者简介：
  
  朱永超（1994-），男，成都飞机工业（集团）有限责任公司工程师，研究方向为网络安全。
  雷浩（1991-），男，成都飞机工业（集团）有限责任公司工程师，研究方向为软件工程。
- 基金信息：
- DOI：10.11907/rjdk.221544
  中图分类号：
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朱永超,雷浩.面向屏幕水印的双屏最小完全覆盖算法[J].软件导刊,2022,21(10):217-224.

ZHU Yong-chao,LEI Hao.Dual-screen Minimum Complete Coverage Algorithm for Screen Watermarking[J].Software Guide,2022,21(10):217-224.
朱永超,雷浩.面向屏幕水印的双屏最小完全覆盖算法[J].软件导刊,2022,21(10):217-224. DOI： 10.11907/rjdk.221544.

ZHU Yong-chao,LEI Hao.Dual-screen Minimum Complete Coverage Algorithm for Screen Watermarking[J].Software Guide,2022,21(10):217-224. DOI： 10.11907/rjdk.221544.

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